大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案,LED工业要求高产量,高器件质量和低购置成本。 PlasmaPro 1000更好地解决了这些需求。
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挺大的一键制作效果
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高总产值
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更紧定的元器件产品品质
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低购入代价
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提高单晶体圆传输腔室并且多至两个腔室的集体式设置
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细则的真空体输送腔室,具有着直闭式和云计算平台式页面设置
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好品质的正确在运转准确时间
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高重量量电子器件耐热性和良率
特点
PlasmaPro 1000的设备能为LED的供应商展示有效的行业内其优势
490mm工业 - 愈加领先的大批量的规模,有7 x 6”晶圆,作为了更为重要的销售量
可信的计算机硬件系统化易保养性 - 出众的常见日常运转周期
最好化压盘 - 激发晶圆散热
Z向可位移参比电极 - 更佳的不光滑性
双进气口 - 更易加工工艺修正
异常的载盘构思 - 每片晶圆在最高的顶部祛除城市之类,均拿到能够的蒸发,且便于利用和运营
高导通的径向(轴等势面)抽气构造 - 确保安全提升自己了技术均衡性和时延
应用
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高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
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用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀