原子层沉积 (ALD) 是一种真正的纳米技术, 可以准确可靠地沉积仅几个纳米厚的超薄薄膜。等离子体可以实现出色的表面预处理, 控制薄膜性质以及作为种类广泛的沉积源。
牛津仪器 FlexAL原子层沉积(ALD)系统可提供远程等离子体原子层沉积(ALD),这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。
牛津仪器 FlexAL原子层沉积(ALD)系统涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。
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在相同一装置中可利索动用远程控制等阴阳离子体与热ALD
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云计算平台式增加保证质量始已经正空下传输数据衬底
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盒式对盒式运作可从而提高产能利用率以适合投产
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对材质主气体/介质液体源的取舍具备有较大的利索性
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等化合物体ALD可确定超高温工艺流程
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采用远战等正离子体以抓实低问题
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依据材料配方推动的电脑软件用户界面达到可以控制 的和可去重复的技艺
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可正确处理达到了200mm的晶圆
牛津仪器 FlexAL原子层沉积(ALD)系统特点
牛津测试仪器产生太大的量的流程自给率,且正在不停的开放新的流程。9九游
为几乎所有的ALD环保设备展示 终生免費的、接续不停的的流程支技,9九游
还将为您展示 光于开放新原材料的小编建议,互相再与您远程管理其中包括新流程配料配方内的新的ALD流程发展。
空气/液體源后驱体模式英文上 - 一体式化毛织手套箱 —— 实时时间转移
一身化接口 - 可以加入进行椭偏仪校正手段
集群服务器式设备 - 始好不容易高压气下传送数据衬底
盒式对盒式运行 - 可加强产量以易于量产u盘
服务器左胳膊与片盒式 - 可解决100mm,150mm或200mm晶圆(就不需要格外主设备去晶圆交易)
所有模式都会以码放于超净间内或放到外墙面 - 不易码放
自动式化的200mm晶圆真空箱运输 - 工艺设备比较灵渗透性
牛津仪器 FlexAL原子层沉积(ALD)系统应用
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纳米电子
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高K栅氧化物
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存储电容电介质
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用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
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用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
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用于晶体硅太阳能电池的钝化
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用于微流体和MEM的高保形涂层
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纳米多孔结构的涂层
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生物MEMS
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燃料电池
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学习
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原子尺度工艺