牛津检测仪器 OpAL电子层层火成岩（ALD）操作系统
公司名称：一些设备与工具软件
国产品牌：
主要参数：
简介：原子层沉积 (ALD) 是一种真正的纳米技术, 可以准确可靠地沉积仅几个纳米厚的超薄薄膜。等离子体可以实现出色的表面预处理, 控制薄膜性质以及作为种类广泛的沉积源。牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统是一种带有等离子体选项的直开式热原...
申请服务
- 产品介绍
原子层沉积 (ALD) 是一种真正的纳米技术, 可以准确可靠地沉积仅几个纳米厚的超薄薄膜。等离子体可以实现出色的表面预处理, 控制薄膜性质以及作为种类广泛的沉积源。牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。
- ALD护肤品家族性的归属于的型号设备行需要满足学术交流界、工业企业研制开发和小整体规模生產的多种不同需求量。
- 实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪。
-
OpAL控制系统可依据明晰而易行的路线升阶为等阳阴离子体，如此便可在两个设计紧促的仪器上做到等阳阴离子体和热ALD。
- 紧奏型型直闭式热原子核层的堆积（ALD）机械设备，有点等阴阳离子工具栏
- 于于小尺码至200mm的晶圆片
- 蒸汽式注入或鼓泡三种溶剂或固态物体前轮驱动体
- 实时交通查重应用设置，涉及与ALD把握平台相联的光谱仪椭偏仪
牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统特点
牛津实验仪器有个量的流程保障，另外正在快速開發新的流程。9九游 为整个的ALD机器作为无限期全免的、传承快速的流程扶持，9九游 还将为您作为有关于開發新材质的可以，同一时间坚持与您共享app包涵新流程配量少部分的新的ALD流程重大进展。 可搭载暗含样件传出入口的N2吹扫防护手套箱 - 适合于干热环境 非常容易拆换的内腔室 - 削减腔室家电清洗时间段 机柜可装配在抽气导压管上并附有N2吹扫 - 以保持的健康和安全性的承若 气动式吊车平衡装置 - 使用很安全点击腔室 可添置抽气罩或氢气吹扫防护手套箱 - 以保证 健康的和稳定的保障
牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统应用
- 纳米电子
- 高K栅氧化物
- 存储电容电介质
- 用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
- 用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
- 用于晶体硅太阳能电池的钝化
- 用于微流体和MEM的高保形涂层
- 纳米多孔结构的涂层
- 生物MEMS
- 燃料电池
最新的成品
涉及到產品
