牛津实验室机械 Ionfab 300 IBE阴离子束刻蚀的和谐性性、光滑性俱佳且软件应用软件范围内广。9九游
的机械有和谐性的来源于页面设置,有直闭式、单衬底拷贝格局和盒式对盒式格局。系統配资与实际上软件应用软件紧紧和谐,以确保安全生产领取时延更加迅速且去可重复性较好的生产技术成果。
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多形式 用途
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可以与其他等化合物体刻蚀和岩浆岩系统相融合
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多晶硅圆传输数据模式英文或群集式晶圆操作方法
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双束流系统配置
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更低的表皮pe膜凹凸不平度
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更好的生产批号均性和工艺技术反复反复性
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明确终站监测站 —— SIMS,导弹发射光谱图
牛津仪器 Ionfab 300 IBE离子束刻蚀特点
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质量薄膜高 ——超低污染
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产量高,紧凑的系统体积设计 ——运行成本低
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已获得专利的高速衬底架(高达1000RPM)设计,并配备了白光光学监视器(WLOM)——更为准确的实时光学薄膜控制
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配置灵活 ——适于先进的研究应用
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灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式
牛津仪器 Ionfab 300 IBE离子束刻蚀应用
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磁阻式随机存取存储器(MRAM)
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介电薄膜
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III-V族光电子材料刻蚀
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自旋电子学
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金属电极和轨道
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超导体
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激光端面镀膜
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高反射(HR)膜
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防反射(AR)膜
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环形激光陀螺反射镜
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X射线光学系统
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红外(IR)传感器
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II-VI族材料
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通信滤波器